军工科技第1520章 这项技术的成功将是对综合国力的提升

【修改版】 “您过奖了。

”吴浩连忙谦虚道。

众人笑了笑随即有现场嘉宾出声道：“那么它相比于传统芯片又有什么缺点呢能不能取代现有的硅基芯片。

” 听到这个问题现场立即安静下来。

这个问题很尖锐也很敏感。

今天正是光刻机发布面世的大日子在这样的日子里面提出这样一个问题这让人不由怀疑这位嘉宾是不是来找茬的。

所以众人在看了一眼这位专家后随即将目光转移到吴浩身上想要听听他的回答。

不吴浩非常淡定的露出笑容摇了摇头道：“光子芯片并不能代替现有的硅基芯片尤其是这种7纳米以上制程的高性能芯片。

这并非是因为性能达不到而是因为光子芯片因为其原理限制所以目前我们无法做到像硅基芯片尺寸大小的芯片。

并且光子芯片容易受环境的影响使用方面也有相关的要求。

目前来说它最大的使用途径还是在超级计算机大型计算机服务器还有主机上面使用。

像这类5纳米制程的芯片所广泛应用到的数码产品领域这种光子芯片是无法运用的。

” 听到吴浩的回答现场众人都点了点头纷纷露出了笑容。

吴浩并没有回避和敷衍回答这个问题而是给了非常清晰明确的回答。

而且回答的结果也让众人吃了一颗安心丸那就是这种光子芯片是无法取代这种先进制程的硅基芯片的。

“各有各的优势嘛我们需要在各个领域全面开花。

这样我们才能不受制于人我们才能最大程度的解放生产力促进我们国家的科技和经济发展。

而它所直接带来的则是我们国家综合国力的提升这一点非常重要。

”领导总结了一番随即看向一边的袁守义问道：“想这样的先进的光刻机你们的年产量能达到多少。

” 见领导提问袁守义随即回答道：“今年我们预计将会试生产交付三台同等规格的EUV光刻机明年我们会对生产制造工艺进行一番优化和提升并对生产制造过程中的一些问题进行解决届时我们的年产量预计能够达到十台左右。

并且随着技术和生产制造工艺的不断提升这个数字还能增加预计我们将在三年内实现年产量十五台到二十台这样的产量。

” “少了。

”听到袁守义的话领导随即摇头道：“我们国内对于芯片的需求量巨大每年要向海外企业支付巨额的芯片采购费用。

因此这一块市场很大并且发展前景非常广阔。

我觉得你们完全可以放下顾虑放开手脚全力生产。

在这块我可以给你个承诺国家将会进一步加大对于像你们这样致力于尖端关键技术设备研发和制造企业的扶持力度税收方面全面减免并且基于你们相关的资助和补贴政策方面先行从优全面放宽。

至于你们担心的产量过剩问题这一块也不用担心由国家来接盘。

你们要意识到目前不止我们国家缺少先进的光刻机设备世界其它各国国家都需要。

因此这一块市场非常的大眼光要放长远点。

” “谢谢领导！”众人闻言纷纷露出兴奋的笑容。

这对于他们来说绝对是好事不仅是相关政策税收减免扶持方面还有领导所承诺的接盘保底措施这可以说为他们解决了后顾之忧。

说完这些领导有忍不住关心的询问起来：“这台光刻机什么时候能够投入生产多长时间能够满足我们国家对于高端芯片需求的缺口。

” 听到这个问题一直陪同的老马开口说道：“马上这台光刻机就会被运往蜀都我们在那里新建了一座大型的晶圆厂。

这座晶圆厂不仅仅能够生产制造晶圆而且还能生产制造芯片。

这座晶圆厂我们计划一期工程完工并且投入生产后年生产芯片将达到五千万片以上。

届时将能够暂时缓解我们国内高端芯片紧缺的局面。

并且帮助相关的企业摆脱海外的限制以及套在脖子上面的枷锁让他们能够逐渐恢复正常。

二期工程我们计划将这个产量再提升一倍解释将有效解决我们国家芯片紧缺的现状并使得我们国家在高端芯片领域逐渐实现自主化摆脱对于海外的依赖。

如果一切顺利的话整个过程将持续五年时间我们有信心在五年内达计划目标要求。

” “好大胆放手去干。

在这块有国家为你们全程保驾护航着呢。

”领导露出了高兴的笑容道。

这样的回答的确很提气虽然需要五年时间但对于这么大一个项目和工程来说它并不算长甚至可以说已经是非常快了。

再说这么多年都熬过来了还差这五年时间吗。

说想到这领导的脸色的笑容更胜然后冲着众人问道：“什么时候我们能够实现三纳米甚至两纳米的光刻机技术。

” 听到这个问题袁守义想了一下然后回答道：“想要实现三纳米甚至是两纳米的生产工艺主要还是在光源上面这一点还是要看吴总他们的那边的进度。

” 哦众人闻言都看向了吴浩。

呵呵面对众人的目光吴浩笑着说道：“主要还是复合式透镜组的精度精度越高极紫外光的波长也就越短对于光线的控制也就越精准所生产出来的芯片制程也就越高。

当然了光刻机技术的发展不止是光源和透镜组这一块还要其它一系列技术的发展和进步。

简单来说这就是一个复杂的系统性工程需要各方面全面发展才行。

对于我们来说现阶段我们要做的一方面是加强对于现阶段5纳米制程EUV光刻机的生产使其能够满足我们国内芯片制造领域的发展和需求解决芯片紧缺这个紧要问题。

虽然说相比于目前国际先进的3纳米和2纳米芯片还有一定的差距但这个差距其实并不大。

就现阶段来说完全可以满足我们相关企业对于高端芯片的需求。

而另一方面我们也需要吃透和消化5纳米制程EUV光刻机研制成功经验为下一步研发更高制程EUV光刻机奠定基础。

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